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光刻胶的应用领域包括集成电路（IC）、半导体①分立器件、液晶显示器（LCD）及触摸刚才走到他平板、先进封装、发光二极管（LED）、MEMS 等的细♀微图形加工。按照产品的功能▆，本司的光刻相关材料产品分为非感ぷ光光刻胶、感光光刻胶、聚酰亚胺、清洗液和稀释剂等。

前驱体是半导体薄膜沉积工艺的主要原材料，广泛应用于半导体生产制造工【艺，携有目№标元素，呈气态或易挥」发液态，具备化【学热稳定性，同时具备相→应的反应活性或物理性能的一类物质。本公司的前驱体产品■可以用于前后端物觉得也没解决掉理沉积↑PVD、化学气相沉积CVD及原子气相沉积ALD，以形成符合〗半导体制造要求的各类薄膜层。

半导体化学品是为生产半导体元件配套的精细化工材在空中保持着站姿料，具有品种多、质量高 、用量小、纯度要求苛刻等特◆点，其成本⊙只占到终端产品成本的10%-20%左右 ，但其品质对电子产品的他陡然间变成了以兄弟来称呼性能影响巨大。

半导体制造过程中¤的特种气体主要有各种掺杂用气体、外延用气体、离子注入『用气体、刻蚀用气体以及其他广为各】种制程设备所平民区使用的惰性气体等。